İleri bias durumunda VD
potansiyeli n-tip yapı içinde elektronlara, p-tip yapı içinde boşluklara bir
basınç etksi uygulayacaktır.Arınma bölgesinin genişliği azalacaktır. Böylece
elektronlar ve boşluklar yüzeye yakın bölgelerdeki iyonlarla biraraya
gelecektir.
p-tip yapıdan n-tip yapıya
azınlık taşıyıcısı elektronların akışında büyüklük olarak bir değişiklik
olmayacaktır. Çünkü materyal içerisindeki iletkenlik seviyesi sınırlı sayıda
katkılarla kontrol edilmektedir.
Arınma bölgesinin
genişliğindeki azalma kavşak bölgesi içinden yoğun bir çoğunluk akısıyla
sonuçlanır. n-tip materyal içerisindeki bir elektron alçalan arınma bölgesinden
dolayı kavşakta azalmış bir engel görür. p-tip materyale uygulanan pozitif
potansiyelden dolayı kuvvetli bir çekimle karşılaşır. Uygulanan gerilimin
büyüklüğündeki artmaya bağlı olarak arınma bölgesi genişliği azalmaya devam
edecek ve çok sayıda elektron kavşak içinden rahatlıkla geçebilecektir. Bu
akımdaki artış eksponansiyel bir artışa sahiptir.
  

Katı hal fiziği kullanılarak bir
yarıiletken diodun genel karakteristiği ileri ve ters gerilim için
IF= ileri
gerilim akımı
IS= ters
gerilim satürasyon akımı
e = elektron
yükü = 1.6.10-19 C
VF = ileri gerilim voltajı
k = Boltzman sabiti =
1.38.10-23joule/oK
T= mutlak sıcaklık (oK),
Oda sıcaklığı T = 273+30 = 300oK
0oC = 273oK
Yapıdaki kovalent bağlardan kopan
elektronların yeni yeni elektron oluşturması olayı.
Gerçek diodlarda iletkenlik
artımı
Ge 0.3V
Si 0.7V dan itibaren
başlar.
Ters yönde polarlanmada çok az da
olsa (mA) mertebesinde bir kaçak akımın
varlığı gözlenir (Katkı atomlarından dolayı.)
|