üniversite
Katıhal fiziği
Yarıiletken diyot İleri besleme uygulanması
| Yarıiletken diyot İleri besleme uygulanması |
|
|
|
| Yazar fizik | ||||||
| Çarşamba, 03 Eylül 2008 | ||||||
|
İleri bias durumunda VD
potansiyeli n-tip yapı içinde elektronlara, p-tip yapı içinde boşluklara bir
basınç etksi uygulayacaktır.Arınma bölgesinin genişliği azalacaktır. Böylece
elektronlar ve boşluklar yüzeye yakın bölgelerdeki iyonlarla biraraya
gelecektir.
p-tip yapıdan n-tip yapıya azınlık taşıyıcısı elektronların akışında büyüklük olarak bir değişiklik olmayacaktır. Çünkü materyal içerisindeki iletkenlik seviyesi sınırlı sayıda katkılarla kontrol edilmektedir. Arınma bölgesinin genişliğindeki azalma kavşak bölgesi içinden yoğun bir çoğunluk akısıyla sonuçlanır. n-tip materyal içerisindeki bir elektron alçalan arınma bölgesinden dolayı kavşakta azalmış bir engel görür. p-tip materyale uygulanan pozitif potansiyelden dolayı kuvvetli bir çekimle karşılaşır. Uygulanan gerilimin büyüklüğündeki artmaya bağlı olarak arınma bölgesi genişliği azalmaya devam edecek ve çok sayıda elektron kavşak içinden rahatlıkla geçebilecektir. Bu akımdaki artış eksponansiyel bir artışa sahiptir.
Katı hal fiziği kullanılarak bir yarıiletken diodun genel karakteristiği ileri ve ters gerilim için
IF= ileri gerilim akımı IS= ters gerilim satürasyon akımı
VF = ileri gerilim voltajı k = Boltzman sabiti = 1.38.10-23joule/oK T= mutlak sıcaklık (oK), Oda sıcaklığı T = 273+30 = 300oK 0oC = 273oK
Yapıdaki kovalent bağlardan kopan elektronların yeni yeni elektron oluşturması olayı.
Gerçek diodlarda iletkenlik artımı Ge Si Ters yönde polarlanmada çok az da olsa (mA) mertebesinde bir kaçak akımın varlığı gözlenir (Katkı atomlarından dolayı.)
Favorilere Ekle
Sik Kullanilanlar
E-posta ile Bildir
Okunma: 925 Yorumlar
(0)
|
||||||
| < Önceki | Sonraki > |
|---|